2시간여 만에 진화..인력 대피 등 생산 중단 없어
"별도 대체 시설 갖춰..피해액 미미한 수준일 것"
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9일 소방당국과 삼성전자 등에 따르면 전날인 8일 오후 11시 18분쯤 화성사업장 내에서 화재가 발생했다. 불은 소방차 등 장비 32대와 소방관 84명이 투입돼 2시간 30여분 후인 이날 오전 1시 26분 진화됐다.
화재는 반도체 생산과정에서 사용 후 버려지는 폐수의 악취를 처리하는 ‘폐수탈취’ 부대시설에서 처음 발생했다. 다행히 이 시설은 무인으로 운영돼 인명피해는 없었다. 또 불이 난 장소가 반도체 생산라인이 있는 생산동과는 거리가 있어 인력 대피 등에 따른 생산 중단도 없었던 것으로 알려졌다.
삼성전자의 한 관계자는 “폐수처리 시설 중 탈취 시설에서 불이 시작된 것으로 파악한다. 무인시설인 만큼 인명피해가 발생하지 않았다”라며 “생산동과는 거리가 있어 생산라인에 차질을 줄 만한 상황이 발생하지도 않았다”라고 설명했다. 그러면서 “불이 난 폐수처리 시설을 대체할 별도의 시설도 갖추고 있어 추가적인 피해도 발생하지 않을 것으로 본다”라며 “피해액은 미미한 수준일 것”이라고 덧붙였다.
화재가 발생한 화성사업장은 메모리 반도체인 D램과 낸드플래시, 시스템 반도체인 CIS 이미지 센서 등 삼성전자의 대표적인 반도체 생산기지다. 앞서 이곳은 지난해 12월 31일에도 1분여간 전력공급이 중단되는 정전사고가 발생한 적이 있다.
김종호 (kona@edaily.co.kr)
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